氫氣受到眾多電子製造商使用，可作為薄膜沉積的載流氣體以及熱處理的還原劑。

氦氣是平板顯示器產業不可或缺的物質，作為冷卻劑使用，對於半導體裝置所需的管控環境也是關鍵要素。

在半導體、顯示器及太陽能產業，矽甲烷是非晶薄膜與複晶矽薄膜沉積的主原料。

氨氣是氮化物薄膜與磊晶成長中，最常見的氮氣前驅物。LED 產業的磊晶用途需要使用超高純度的氨。

高純度二氧化碳可在清洗用途中去除超小微粒，防止光阻劑在重要半導體層的乾燥過程中崩塌。

二氯矽烷使晶態矽薄膜能夠在低溫環境中成長，速度優於半導體與太陽能產業使用的矽烷。

磷化氫是半導體及太陽能製程 n 型摻雜的離子佈植來源，同時也是半導體和顯示器製程 n 型摻雜的化學氣相沉積法 (CVD) 來源。